中国はすでに知的財産権の「模範生」に―仏メディア

記事は仏誌レクスプレスの23日付文章を紹介。記事によると同誌は、中国がこれまで特許侵害問題によって信頼を損ない続けてきたとする一方で、「そのような状況はすでに過去のものとなり、近年は特許、商標に関する法的な枠組みと戦略的な枠組みを大幅に改革してきた」と伝えた。

そして、24年に中国の国際特許出願件数が世界1位となり、その背景には国の法律や基準をグローバル・スタンダードに合わせるべく努力してきたことがあると分析。14年に中国初の専門的な知的財産権裁判専門機関を設立し、今では最新のコンピューターツールを通じて特許出願や法的紛争に関係する複数の専門的な訴訟処理機関からなるネットワーク構築に至ったと紹介した。

また、21年に改正された中華人民共和国専利法（特許法）では医薬品特許の期間延長といった革新的な措置を導入し、24年には特許や商標の出願における詐欺、濫用を避けるための「誠実原則」も盛り込んだとした。

同誌はその結果、今では中国の裁判所が「知的財産権法をより公正に適用することができるようになった」と評し、在中華米国商工会議所の会員に対する調査では企業の7割以上が「中国の知的財産権の執行が自社の投資を妨げているとは考えない」と回答しており、06年の評価から大幅に改善したと伝えた。

さらに、中国国家知識産権局が24年4月に日米欧中韓の5カ国・地域協力による「特許審査ハイウェイ（PPH）改善イニシアチブ」への参加を発表したことに言及。中国が知財権保護やその制度、法整備に向けて国際協力を深めている中で、米国は「特許制度の枠組みが調整局面に入っているようで、ソフトウェアや医療、ビジネスなどの分野における特許保護が困難になりつつある。この傾向は米国人のイノベーションの機会を奪っている」と指摘した。（編集・翻訳/川尻）

https://www.recordchina.co.jp/b950793-s25-c20-d0193.html

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